円筒形ターゲット
ターゲットの形状は、従来までプレーナー（平板）タイプ゚が一般的でしたが、スパッタリング装置が近年ロータリータイプ(円筒形)のターゲットを採用可能とした事で、当社も逸早く量産化を行ない、お客様の工程改善等に貢献しています。
また品質は平板タイプのターゲットと全く同等です。
現在製品化しているのはITOターゲットに加え、IGZOターゲットの量産化にも成功し、様々な組成のターゲットが提供可能です。
用途
フラットパネルディスプレイ、タッチパネル用途
特性値 ITO
| 規格 | 単位 | 備考 | ||
|---|---|---|---|---|
| 組成 | In2O3 | balance | wt.% | ー |
| SnO2 | 3,5,7,10※1 | ー | ||
| 純度 | ITO | ≧99.99 | % | ー |
| 相対密度 | ≧99.5 ※2 | % | ー | |
※1 スタンダード組成。その他の組成についても、ご要望に応じて対応させて頂きます。
※2 10wt%SnO2-ITO
特性値 IGZO
| 規格 | 単位 | 備考 | ||
|---|---|---|---|---|
| 組成※1 | In | 1 | at ratio | ー |
| Ga | 1 | ー | ||
| Zn | 1 | ー | ||
| 純度 | IGZO | ≧99.99 | % | ー |
| 相対密度 | ≥99.5 | % | ー | |
※1 In:Ga:Zn:O=1:1:1:4以外に、各種組成の製造が可能です。
生産拠点
日本：福岡県大牟田市大字唐船2081（三池ターゲット工場）
台湾：中華民国台湾省台中市梧棲區緯五路6號 （台湾特格股份有限公司）
