ITOターゲット
当社は独自のスラリー形成技術（平板形－MMF法）（円筒形－CIP法）により、様々な形状・サイズの高密度化を実現。
ご使用時のノジュール、パーティクルの低減をお約束致します。
また成膜後の熱処理が出来ないタッチパネル用途としても、お客様のニーズに合ったカスタマイズ製品を提供致します。
用途
- フラットパネルディスプレイ
- タッチパネル用途
特性値
| 規格 | 単位 | 備考 | ||
|---|---|---|---|---|
| 組成 | In2O3 | balance | wt.% | ー |
| SnO2 | 3,5,7,10※1 | ー | ||
| 純度 | ITO | ≧99.99 | % | ー |
| 相対密度※2 | ≥98 | % | ー | |
| 7.12 | g/cm3 | ー | ||
※1 スタンダード組成。その他の組成についても、ご要望に応じて対応させて頂きます。
※2 10wt%SnO2-ITO
製造工程
独自製法による焼結体MMF™で作られた
超高密度スパッタリングターゲット
当社独自の新製法（スラリー成形技術）です。
特性
- ノジュールの減少
- パーティクル、メタル異物の減少
- 異常放電（アーキング）の減少
生産拠点
日本：福岡県大牟田市大字唐船2081（三池ターゲット工場）
台湾：中華民国台湾省台中市梧棲區緯五路6號 （台湾特格股份有限公司）
