ABRASIVE・Ta/Nb

研磨材・Ta/Nb

稀有材料事业部经营用于SAW滤波器的高纯度钽、用于液晶玻璃基板和硬盘玻璃基板的铈系研磨材、以及用于SiC半导体研磨的NANOBIX^TM等稀有金属产品。

MIREK^TM

MIREK^TM是一种以氧化铈为主要成份的研磨材，广泛应用于电子工业和光学工业等尖端领域。主要用途是用于液晶玻璃基板，硬盘玻璃基板，光罩和光学玻璃的研磨。我们提供从初步研磨到最终精加工的各种适用产品。
MIREK^TM

作为功率元器件（Power device）用途而备受关注的碳化硅（SiC）单晶，由于其非常坚硬的特性，要将其表面抛光到原子级的平滑度，需要优良的研磨技术和长时间的研磨。本公司利用迄今为止积累的抛光液开发技术，成功开发出了能够在极短时间内将SiC表面加工得极为平滑的抛光液。
NANOBIX^TM

通过使用溶剂萃取的分离和精制技术，提取并高纯度化氧化钽和氧化铌。这些产品被广泛应用于光学镜头，电子陶瓷和单晶等领域。
氧化钽・氧化铌・氢氧化铌

通过溶剂萃取分离和精制技术提取的氧化物，经碳化处理制造的炭化钽和炭化铌。这些产品被用作硬质合金和PCB钻头的原料。
碳化钽・碳化铌