ABRASIVE・TA/NB
研磨材・Ta/Nb
レアマテリアル事業部では、SAWフィルター用高純度タンタル、液晶パネルやハードディスクのガラス研磨用セリウム系研磨材、SiC半導体研磨用NANOBIXTMなどのレアメタル製品を取り扱っております。
セリウム系研磨材
ミレークTM (MIREKTM)
三井金属の研磨材（登録商標ミレークTM、MIREKTM）は、酸化セリウムを主成分とした研磨材であり、電子工業や化学工業といった最先端の分野で使用されております。主に液晶ガラス基板やハードディスク基板、フォトマスク、光学ガラスの研磨向けに一次研磨用から最終仕上げ用まで各種用途に適した製品を取り揃えています。
MIREKTM
SiC基板用研磨材
NANOBIXTM
パワーデバイス用材料として注目されている炭化ケイ素 (SiC) 単結晶は非常に硬い材料であることから、この表面を原子レベルまで平滑にするには優れた研磨技術よおよび長時間の研磨が必要でした。当社では、これまで培ってきた研磨材料開発の技術を活かし、SiC表面を極めて平滑に、かつ短時間で加工できる研磨材料の開発に成功しました。
NANOBIXTM
タンタル/ニオブ
酸化タンタル・酸化ニオブ・水酸化ニオブ（Ta2O5・Nb2O5・Nb(OH)5）
三井金属の酸化タンタル・酸化ニオブは、溶媒抽出を用いた分離・精製技術により抽出し高純度化しております。光学レンズ、電子セラミックス、単結晶などに幅広くご利用いただいております。
代表特性値 1. 酸化タンタル・酸化ニオブ・水酸化ニオブ
炭化タンタル・炭化ニオブ（TaC・NbC・TaNbC）
三井金属の炭化タンタル・炭化ニオブは、溶媒抽出を用いた分離・精製技術により抽出された酸化物を炭化処理して製造されています。これらは超硬合金、PCBドリルの原料として供給しております
代表特性値 2. 炭化タンタル・炭化ニオブ
